產(chǎn)品詳情
Agar 離子濺射儀是日常鍍膜應(yīng)用的理想選擇。Agar 離子濺射儀能夠提供非常精細(xì)的濺射效果，并且經(jīng)濟(jì)實(shí)用操作簡便，抽真空速度快對樣品無損傷。Agar 離子濺射儀可以提供單獨(dú)的真空泵或者真空連接裝置供額外的一個(gè)真空泵使用。 因此該真空泵可以和額外的蒸碳鍍膜儀一起使用。另外，雙真空泵系統(tǒng)也可以使兩臺 Agar 公司的鍍膜儀共用一個(gè)真空泵。
濺射儀腔體
120X120mm 的大腔體可以滿足大多數(shù)可選擇的“O”圈以及多種樣品夾的使用。而且 可以選擇膜厚監(jiān)測儀作為選項(xiàng)。標(biāo)準(zhǔn)的樣品腔可同時(shí)放置 6 個(gè)樣品。樣品座的高度調(diào)節(jié)范圍為 25-80mm。12 個(gè)樣品的 大樣品座作為備選件，該配件在膜厚監(jiān)測儀中是標(biāo)準(zhǔn)配置。
濺射頭
高位的冷磁濺射頭包含一個(gè) 57mm 的金靶。其他靶材也可方便的切換，比如 Pt，Pd等。當(dāng)樣品室打開的時(shí)候真空保護(hù)裝置會(huì)自動(dòng)啟動(dòng)。
控制系統(tǒng)—自動(dòng)
整個(gè)的操作過程包含抽真空、清洗、時(shí)間設(shè)置等都是在微機(jī)控制下自動(dòng)完成，操作者 只需要設(shè)置好濺射的電流以及鍍膜時(shí)間即可。手動(dòng)模式一般用于設(shè)定操作所用的參數(shù)。
真空泵系統(tǒng)
集成式的真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)為安裝在鍍膜系統(tǒng)的背部，并且固定在一個(gè)減震平臺上。 真空泵以 KF16 用一節(jié)短的不銹鋼與主機(jī)連接。只需35秒即可達(dá)到 0.1mb 的真空度。 選裝泵可作為備選項(xiàng)方便操作者選擇額外的泵系統(tǒng)。
技術(shù)規(guī)格
腔體尺寸： 直徑120mm，高120mm
SE 的腔體尺寸： 直徑150mm，高165mm
靶材： 金靶 Au/Pd 或 Pt 可選
樣品座： 12 SEM 樣品座
濺射電源： 基于微處理器的鉑靶（57mm x 0.1mm）
安全聯(lián)鎖金/鈀靶（57mm x 0.1mm）
最大電流80mA
濺射頭： 低壓平面磁控管型快變靶繞暗空間屏蔽
模擬測量： 真空-0.001mb
電流0-50mA
尺寸： 420mm 寬 x 295mm 高
重量： 10Kgs
膜厚控制： 使用終止膜厚度
膜厚控制監(jiān)視器（可選）
控制方法： 氣體吹掃和泄漏功能的自動(dòng)操作和自動(dòng)工藝排序
全手動(dòng)操作
帶暫停的數(shù)字計(jì)時(shí)器（0-300秒）
自動(dòng)排氣
泵系統(tǒng)：
旋轉(zhuǎn)泵： 高速, 2級
速度： 2.0/2.4 cu.m/hr (50/60Hz)
0.1mb 是 25/30秒
臺式系統(tǒng)： 真空泵安裝在與不銹鋼波紋管連接系統(tǒng)兼容的防振臺上
尺寸： 330mm 寬 x 215mm 高
重量 ： 14Kgs
安裝要求
電壓： 100 - 120 or 200 - 240 VAC, 50/60Hz
功率： 最大175伏安
氬氣： 99.9%純氬
壓力，調(diào)節(jié)7-8 psi（0.5-0.6 bar）軟管連接，6.0 mm（1/4“）
產(chǎn)品外觀
